日产化学株式会社金沙yao88技术

日产化学株式会社共有147项金沙yao88

  • 一种布线形成方法,其包括下述A工序及B工序,所述布线形成方法能够通过无电解镀来提供不存在断线且直线行进性优异的细线图案、例如50μm以下的细线图案。A工序:通过在具有亲液部和拒液部的基材上涂布催化剂油墨而使其具备基底层的工序,B工序:将...
  • 本发明提供电荷传输性清漆,其包含苯胺衍生物、噻吩衍生物等电荷传输性物质、由下述式表示的鎓硼酸盐和有机溶剂。
  • 本发明提供一种在OLED器件中能够保持高透明度或者可见光谱中的低吸光度(透射率>90%T)的组合物。一种墨液组合物,其包含:(a)聚噻吩,(b)一种以上的金属氧化物纳米粒子,(c)一种以上的掺杂剂,(d)含有一种以上的有机溶剂的液体载体。
  • 本发明提供一种组合物,其包含对于OLED器件制作时所使用的有机溶剂的分散性优良的磺化共轭聚合物。一种墨液组合物,其包含:(a)经过还原剂进行处理而得到的磺化共轭聚合物,(b)一种以上的胺化合物,以及(c)含有一种以上的有机溶剂的液体载体。
  • 本发明公开了一种包含特定的苯胺低聚物、受电子性掺杂剂、金属氧化物纳米粒子、以及有机溶剂的电荷传输性清漆,由该电荷传输性清漆制作的电荷传输性薄膜,具有该电荷传输性薄膜的电子器件和有机电致发光元件,以及使用该电荷传输性清漆的电荷传输性薄膜的...
  • 提供一种自组装化膜形成用组合物,其用于使得即使在会发生嵌段共聚物的微相分离的排列不良那样的高的加热温度下,也在涂布膜整面使包含嵌段共聚物的层的微相分离结构相对于基板垂直诱导。一种自组装化膜形成用组合物,是包含嵌段共聚物、和作为溶剂的沸点...
  • 本发明提供兼具高蚀刻耐性、高耐热性和良好的涂布性的抗蚀剂下层膜形成用组合物、使用了该抗蚀剂下层膜形成用组合物的抗蚀剂下层膜及其制造方法、抗蚀剂图案的形成方法、以及半导体装置的制造方法。一种抗蚀剂下层膜形成用组合物,其包含聚合物、和作为溶...
  • 包括如下工序:液晶取向膜形成工序,在一对基板的各自的表面,由相同组成的液晶取向剂形成液晶取向膜,所述相同组成的液晶取向剂含有具有通过光照射而产生自由基的自由基产生结构的聚合物;液晶取向膜光照射工序,对前述一对基板中的至少一者实施光照射,...
  • 本发明提供耐溶剂性优异,能够使在基板上形成的包含嵌段共聚物的层的微相分离结构相对于基板垂直诱导的下层膜形成用组合物。一种下层膜形成用组合物,其包含共聚物,上述共聚物包含(A)来源于含有叔丁基的苯乙烯化合物的单元结构,(B)来源于不含有羟...
  • 包含聚合物和有机溶剂,所述聚合物由包含具有下述式[1]所示的结构的二胺的二胺成分得到。(式[1]中,Y
  • 本发明的课题是提供固化膜形成用组合物,其用于提供具备优异的垂直取向性和密合性,即使在树脂膜上也可以以高灵敏度使聚合性液晶垂直取向的取向材,以及使用那样的取向材的相位差材。解决手段是一种固化膜形成用组合物,其特征在于,含有(A)具有垂直取...
  • 本发明提供一种副产物少且能以高纯度、高产率制造二硝基化合物的方法,该二硝基化合物为聚酰胺酸和/或聚酰亚胺的制造原料即二胺化合物的前体。通过使式(1)所示芳香族二卤素化合物与式(2)所示N?烷基硝基苯胺衍生物在金属络合物溶剂及碱的存在下反...
  • 提供基板保护层形成用组合物,其为以下的基板保护层形成用组合物:在基体上形成树脂基板后将上述树脂基板剥离而制作树脂基板时,介于所述基体与树脂基板之间,具有从上述基体的易剥离性,且作为剥离后的树脂基板的保护层来发挥功能;其包含聚酰胺酸和有机...
  • 本发明的课题是提供作为面向化妆品等的棒状皮肤外用固体基材的重要特性的、能够防止经时的“出汗”的固体基材。解决手段是一种棒状皮肤外用固体基材,其包含:由下述式(1)所示的化合物及其类似化合物或它们的可药用的盐之中的至少一种构成的脂质肽型化...
  • 包含由式(1)所示的聚苯胺衍生物构成的电荷传输性物质、氟系表面活性剂和溶剂的有机光电转换元件的空穴捕集层用组合物给予适于有机光电转换元件的空穴捕集层的薄膜,特别适于倒层叠型有机光电转换元件的制作。{R
  • 本发明涉及一种聚合物组合物,其含有(A)共聚物,所述共聚物由包含下述单体(A?1)和单体(A?2)的单体混合物得到。此处,单体(A?1)是指,具有1个肉桂酰基部位和2~4个不构成肉桂酰基部位的苯环、且具有聚合性基团的单体,单体(A?2)...
  • 本发明的课题是提供,即使在进行了干燥的情况下吸水性也优异,并且具有柔软性、形状稳定性和形状保持性的水凝胶及其制造方法。解决手段是:一种水凝胶,其包含:水溶性有机高分子(A)、硅酸盐(B)、该硅酸盐的分散剂(C)和吸水性高分子(D)。一种...
  • 本发明提供采用P偏光方式测定的红外吸光度为0以上且不到0.100的薄膜。
  • 本发明提供剥离层的制造方法,其包含将剥离层形成用组合物涂布于基体上、在最高温度450~550℃下进行烧成的工序,所述剥离层形成用组合物包含由下述式(1A)~(1C)表示的聚酰胺酸中的至少一种和有机溶剂。
  • 本发明提供剥离层的制造方法,其中,将包含聚酰胺酸及有机溶剂的剥离层形成用组合物涂布于基体、在最高温度400℃以上进行烧成,所述聚酰胺酸包含由式(1)表示的四羧酸二酐的四羧酸二酐成分与包含选自在至少一个氨基的邻位具有至少一个羟基的芳香族二...
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