基板检查装置制造方法及图纸

技术编号:22127592 阅读:24 留言:0更新日期:2019-09-18 05:10
本公开提出一种基板检查装置。本公开的基板检查装置可以包括:光源,其朝向在基板上的一个区域涂覆的涂覆膜照射激光;光传感器,其获得由所述激光被所述涂覆膜的表面反射而生成的基准光及所述激光透过所述涂覆膜而散射的测量光之间的干涉引起的光干涉数据;及处理器,其基于所述光干涉数据,导出与所述一个区域相应的所述涂覆膜的厚度。

Substrate Inspection Device

【技术实现步骤摘要】
基板检查装置
本公开涉及基板检查装置及基板检查方法。
技术介绍
在基板的处理工序中,为了保护基板上的元件,可以涂覆基板。可以将这种涂覆称为保形涂覆(conformalcoating)。为了确认借助于涂覆而生成的基板上的涂覆膜是否均匀涂覆成既定厚度,可以执行保形涂覆膜的厚度检查。为了涂覆膜的厚度检查,可以执行二维(2Dimensional)荧光照片拍摄检查。但是,二维图像拍摄检查只能进行对涂覆膜厚度的定性的检查,无法测量涂覆膜的准确的厚度数值。另外,二维图像拍摄检查在涂覆膜薄时(例:约30μm),厚度测量会很困难。为了涂覆膜的厚度检查,可以使用利用OCT(OpticalCoherenceTomography,光学相干断层扫描)的方法。但是,当利用OCT执行涂覆膜的厚度检查时,由于基准反射镜的反射而发生光的饱和(saturation)现象,会在厚度测量方面发生错误。另外,由于OCT的基准反射镜、窗玻璃以及光束分离器等构成要素,难以实现OCT的小型化。
技术实现思路
本公开用于解决上述问题,提供一种用于测量基板的涂覆膜厚度的技术。作为本公开的一个方面,可以提出一种基板检查装置。本公开的一个方面的基板检查装置可以包括:光源,其朝向在基板上的一个区域涂覆的涂覆膜照射激光;光传感器,其获得由所述激光被所述涂覆膜的表面反射而生成的基准光及所述激光透过所述涂覆膜而散射的测量光之间的干涉引起的光干涉数据;及处理器,其基于所述光干涉数据,导出与所述一个区域相应的所述涂覆膜的厚度。在一个实施例中,处理器可以基于所述光干涉数据,获得显示所述涂覆膜的深度方向的剖面的剖面图像,以所述剖面图像上的边界线为基础,决定所述涂覆膜的所述厚度。在一个实施例中,可以还包括使光源移动的移动部。在一个实施例中,处理器可以基于所述基准光的光量,导出所述涂覆膜表面的反射率,当所述反射率不足预先定义的反射率时,可以控制所述移动部,使所述光源移动。在一个实施例中,光源可以沿第一方向,朝向所述涂覆膜照射所述激光,所述光传感器可以捕获向所述第一方向的反方向行进的所述基准光及测量光,获得所述光干涉数据。在一个实施例中,光源可以配置得使所述激光不透过空气之外的介质而直接照射于所述涂覆膜的所述表面。在一个实施例中,所述涂覆膜的表面对激光的反射率,可以根据所述涂覆膜中混合的荧光染料的荧光染料混合率决定,所述荧光染料混合率可以设置为使得所述反射率超过预先设置的基准值的值。在一个实施例中,涂覆膜可以借助于在丙烯酸、乌拉坦、聚氨酯、硅、环氧、UV(UltraViolet)固化物质及IR(InfraRed)固化物质中选择的至少一种物质而形成。在一个实施例中,涂覆膜的表面可以以曲面形成。作为本公开的一个方面,可以提出一种基板检查方法。本公开的一个方面的基板检查方法可以包括:朝向在基板上的一个区域涂覆的涂覆膜照射激光的步骤;获得由所述激光被所述涂覆膜的表面反射而生成的基准光及所述激光透过所述涂覆膜而散射的测量光之间的干涉引起的光干涉数据的步骤;及基于所述光干涉数据而导出与所述一个区域相应的所述涂覆膜的厚度的步骤。在一个实施例中,导出涂覆膜的厚度的步骤可以包括:基于所述光干涉数据,获得显示所述涂覆膜的深度方向的剖面的剖面图像的步骤;及以所述剖面图像上的边界线为基础,决定所述涂覆膜的厚度的步骤。在一个实施例中,可以还包括:基于基准光的光量,导出所述涂覆膜表面的反射率的步骤;及当所述反射率不足预先定义的反射率时,使所述光源移动的步骤。在一个实施例中,激光可以沿第一方向,朝向所述一个区域照射,所述基准光及测量光可以向所述第一方向的反方向行进。在一个实施例中,激光可以不透过空气之外的介质而直接照射所述涂覆膜的所述表面。在一个实施例中,所述涂覆膜的表面对激光的反射率可以根据所述涂覆膜中混合的荧光染料的荧光染料混合率决定,所述荧光染料混合率可以设置为使得所述反射率超过预先设置的基准值的值。在一个实施例中,涂覆膜可以借助于在丙烯酸、乌拉坦、聚氨酯、硅、环氧、UV(UltraViolet)固化物质及IR(InfraRed)固化物质中选择的至少一种物质而形成。在一个实施例中,涂覆膜的表面可以以曲面形成。根据本公开的多样实施例,基板检查装置即使在涂覆膜为既定厚度(例:约30μm)以下的较薄情况下,也能够进行准确的厚度测量。根据本公开的多样实施例,基板检查装置无需基准反射镜等构成要素,可以测量涂覆膜厚度,减小光的饱和现象导致的测量错误。根据本公开的多样实施例,基板检查装置可以通过特定区域取样,缩短基板整体的涂覆膜厚度测量需要的时间。附图说明图1是显示某一实施例的基板检查装置运转过程的一个实施例的图。图2是显示本公开的基板检查装置运转过程的一个实施例的图。图3是显示本公开多样实施例的检查装置10的框图的图。图4是显示本公开一个实施例的剖面图像及在剖面图像上显示的边界线的图。图5是显示本公开一个实施例的检查装置10的深度方向测量范围的图。图6是显示本公开一个实施例的处理器110基于多个边界线而导出涂覆膜的厚度的过程的图。图7是显示本公开一个实施例的处理器110根据预定基准而将一部分边界线排除在外的过程的图。图8是显示本公开一个实施例的基于涂覆膜反射率的厚度测量区域的调整过程的图。图9是显示本公开一个实施例的检查装置10通过利用荧光染料的照片拍摄检查而对将执行基于OCT部分170的厚度测量的区域进行取样的过程的图。图10是显示本公开一个实施例的检查装置10根据元件排列,对将执行基于OCT部分170的厚度测量的区域进行追加取样的过程的图。图11是显示本公开一个实施例的检查装置10根据缺陷区域,对将执行基于OCT部分170的厚度测量的区域进行追加取样的过程的图。图12是显示本公开一个实施例的检查装置10对将执行基于OCT部分170的厚度测量的区域的邻接区域进行追加取样的过程的图。图13是显示可以借助于本公开的检查装置10而执行的基板检查方法的一个实施例的图。具体实施方式本文中记载的多样实施例是出于明确地说明本公开的技术思想的目的而举例的,并非要将其限定为特定的实施形态。本公开的技术思想包括从本文中记载的各实施例的多样变更(modifications)、等同物(equivalents)、替代物(alternatives)及各实施例的全部或一部分选择性地组合的实施例。另外,本公开的技术思想的权利范围不限定于以下提示的多样实施例或对其的具体说明。包括技术性或科学性术语在内,只要未不同地定义,本文中使用的术语,可以具有本公开所属领域的普通技术人员一般理解的意义。本文中使用的诸如“包括”、“可以包括”、“具备”、“可以具备”、“具有”、“可以具有”等的表达,意味着存在成为对象的特征(例:功能、运转或构成要素等),不排除其他追加的特征的存在。即,这种表达应理解为包含将包括其他实施例的可能性的开放型术语(open-endedterms)。本文中使用的单数型的表达,只要在文理上未表示不同,则可以包括复数型的意义,这也同样适用于权利要求项记载的单数型表达。本文中使用的“第一”、“第二”或“第一个”、“第二个”等表达,只要在文理上未表示不同,在指称多个同种对象方面,用于将一个对象区别于另一对象,并非限定相应对象间的顺序本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基板检查装置,其中,包括:光源,其朝向在基板上的一个区域涂覆的涂覆膜照射激光;光传感器,其获得由所述激光被所述涂覆膜的表面反射而生成的基准光及所述激光透过所述涂覆膜而散射的测量光之间的干涉引起的光干涉数据;及处理器,其基于所述光干涉数据,导出与所述一个区域相应的所述涂覆膜的厚度。

【技术特征摘要】
2017.11.28 KR 10-2017-0160680;2018.11.07 KR 10-2011.一种基板检查装置,其中,包括:光源,其朝向在基板上的一个区域涂覆的涂覆膜照射激光;光传感器,其获得由所述激光被所述涂覆膜的表面反射而生成的基准光及所述激光透过所述涂覆膜而散射的测量光之间的干涉引起的光干涉数据;及处理器,其基于所述光干涉数据,导出与所述一个区域相应的所述涂覆膜的厚度。2.根据权利要求1所述的基板检查装置,其中,所述处理器基于所述光干涉数据,获得显示所述涂覆膜的深度方向的剖面的剖面图像,以所述剖面图像上的边界线为基础,决定所述涂覆膜的厚度。3.根据权利要求1所述的基板检查装置,其中,还包括使所述光源移动的移动部。4.根据权利要求3所述的基板检查装置,其中,所述处理器基于所述基准光的光量,导出所述涂覆膜表面的反...

【金沙yao88技术属性】
技术研发人员:洪映周洪德和金玟奎崔桢熏
申请(金沙yao88权)人:株式会社高永科技
类型:新型
国别省市:韩国,KR

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